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据报道，三星电子正考虑将其位于韩国天安市和牙山市的后端封装测试设施中的通用 DRAM 和 NAND 闪存业务转移至越南。此举旨在释放厂房空间和专用生产线设备，以全力投入高带宽内存（HBM）堆叠这一紧迫任务。截至目前，三星尚未公开确认该计划。这一考量正值三星大力提升 HBM 晶圆产量之际。三星计划在 2026 年底前将月产量从 17 万片提升至约 25 万片，增幅达 47%。截至本月初，其第六代 HBM4 产品良率已达 80%，远超此前设定的年底目标。维持这一产能爬坡需要后端吞吐量与前端晶圆产出同步，而目前的瓶颈恰恰存在于后端环节。工艺不兼容迫使产线分离三星无法在同一楼层并行运行 HBM 堆叠与通用 DRAM 及 NAND 封装，原因在于工艺的根本不兼容性。传统 DRAM 或 NAND 封装涉及约 700 道工序，包括晶圆切割、引线键合等；而 HBM 堆叠需要额外的约 19 道材料工程步骤，使用完全不同的设备。这些步骤包括硅通孔（TSV）形成、晶圆减薄至约 30 微米、精密芯片堆叠以及热压键合（TCB）。由于架构差异巨大，HBM 所需设备无法执行常规封装操作。三星早前确认，其在天安工厂的 C1、C2 和 C3 生产线已处于满负荷 HBM 堆叠状态。若不移除占用相同洁净室空间的通用封装设备，便无扩展空间。牙山工厂虽新建了专为 HBM 设计的八层后端大楼，但其 HBM 生产线同样无法与通用封装共享空间。行业消息人士称，这是一种 " 双轨 " 策略：来自天安的人员调往牙山的新型 HBM 设施，而来自牙山的通用 DRAM 封装则移至越南。越南成为后端业务新枢纽这一计划建立在三星数十年在越基础设施之上。三星在越南投资总额已超过 230 亿美元，是其最大的海外投资。近期，三星向越南当局提交了一份在北部太原省建设半导体测试厂的提案，造价约 14.9 亿美元。该工厂专注于传统 DRAM 和 NAND 闪存测试，建设工作已于 2026 年初启动，预计 2027 年 11 月投产，每年可验证高达 1533 亿 Gb 的 DRAM 和 2556 亿 Gb 的 NAND。越南已成为英特尔、安靠科技等企业后端运营的重要枢纽，拥有成熟的熟练劳动力和供应商生态系统，这正是三星计划转移的业务类型。HBM：AI 时代的关键瓶颈高带宽内存是实现大规模前沿人工智能的关键。三星当前的 HBM4 架构通过 2,048 位宽总线通信，每堆栈提供至少 2TB/s 带宽。HBM 需求每年增长 70%，预计到 2026 年将占 DRAM 总晶圆产量的约 25%。由于每个 HBM 晶圆消耗的常规 DRAM 资源约为三至四倍，这种取舍是刻意为之：HBM 利润率远高于通用内存，且在 AI 加速器设计中不可替代。2026 年 6 月，英伟达 CEO 黄仁勋确认，三星、SK 海力士和美光均已完成为 Vera Rubin 供应 HBM4 的资格认证。供应链分析师估计，SK 海力士持有 Vera Rubin 分配中 60% 至 70% 的 HBM4 份额，三星供应约 25% 至 30%。缩小这一差距要求三星将更多晶圆产出转化为可发货的 HBM 堆栈，这直接依赖于后端吞吐量的提升。三星 HBM4 良率已从 2 月量产初期的不足 60% 攀升至 8 月的约 80%，部分得益于热压非导电胶膜键合工艺的改进。此外，三星已于 2026 年 5 月向主要客户交付首批 HBM4E 样品。为支持前端产出，三星正扩大平泽 P4 设施产能，计划 2026 年底前将 1c DRAM 月产能提升至 20 万片。战略重心转向 AI 内存如果三星推进后端搬迁，其影响将超出自身生产数字。行业分析师指出，HBM 堆叠是 AI 芯片供应链中仅次于台积电 CoWoS 的第二大瓶颈。后端产能决策将决定 2027 年的 AI 内存供应。三星已停止 MLC NAND 闪存产品线，并暂停 LPDDR4 订单，表明其正战略退出通用内存细分市场，集中资源于高利润的 AI 内存。越南后端搬迁将是这一战略在空间和操作层面的体现。该计划能否实施，取决于越南新测试厂吸收传统内存产量的速度，以及 HBM 需求轨迹。目前信号表明，将晶圆转化为 AI 内存的后端产线，比转化为通用芯片的产线更具价值，内存制造的地理格局正因这一现实而被重新绘制。【星途科讯 图文丨王宇洲 首发于 ZAKER 科技，转载请注明出处】
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